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筛选条件: 2026-07-13 [星期一] 汉厅315

日期:2026年07月13日

地点:汉厅315

08:30 -10:10 | FB07 0713 上午1
编号 时间 类型 题目 讲者 单位
08:30-08:50 邀请报告

基于框架核酸的原子级图案制造与应用机遇

柳华杰 同济大学
08:50-09:10 邀请报告

原子级低维材料穆勒矩阵椭偏测量技术与应用

谷洪刚 华中科技大学
09:10-09:30 邀请报告

原子团簇信息构筑与原子级加工

张敏昊 南京大学
09:30-09:50 邀请报告

超分辨热敏相变光刻技术

何 强 华中科技大学
09:50-10:10 邀请报告

光刻胶材料的研发进展及未来趋势

朱慧娥 张江实验室
10:25 -11:45 | FB07 0713 上午2
编号 时间 类型 题目 讲者 单位
10:25-10:45 邀请报告

面向后摩尔时代的单分子电子学器件及其集成化尝试

刘俊扬 厦门大学
10:45-11:05 邀请报告

挑战纳米技术前沿:高精度直写与成像工具的融合创新

朱 国 锐时科技(北京)有限公司
11:05-11:25 邀请报告

宽谱光电响应材料开发和器件应用

刘彦男 上海交通大学
11:25-11:45 邀请报告

Beyond lithography: Atomic-level arrangement of aerosol into structural arrays

冯继成 上海科技大学
13:30 -15:10 | FB07 0713 下午1
编号 时间 类型 题目 讲者 单位
13:30-13:50 邀请报告

原子分子精密操控研究

张栋栋 吉林大学
13:50-14:10 邀请报告

探索利用可控气相凝聚产生目标原子团簇束流

邢小鹏 同济大学化学科学与工程学院
14:10-14:30 邀请报告

手性光电集成器件

庄涛涛 中国科学技术大学
14:30-14:50 邀请报告

石墨烯纳米带器件:面向下一代分子级集成电路

张 健 国家纳米科学中心
14:50-15:10 邀请报告

基于纳米掩膜光刻的无光刻胶直接纳米图案化技术

曾双双 华中科技大学
15:10 -15:30 | 茶歇
15:30 -17:50 | FB07 0713 下午2
编号 时间 类型 题目 讲者 单位
15:30-15:50 邀请报告

基于互变异构单分子器件的本征稀有随机性:从噪声到资源

李 晶 厦门大学
15:50-16:10 邀请报告

氧化金属原子团簇赋能含氧烧结材料的创新策略与研究进展

康茂东 上海交通大学
16:10-16:30 邀请报告

高均匀全息三维体多焦点的快速生成及其应用研究

汪超炜 中国科学技术大学
16:30-16:50 邀请报告

低维硫族化合物的设计合成、结构调控与器件化

纪清清 上海科技大学
17:10-17:30 邀请报告

纳米剪纸术的发展与光子学应用

刘之光 中国科学技术大学
17:30-17:50 邀请报告

石墨烯柔性温度传感阵列的材料异质性补偿与自适应校准方法

陶翌辉 深圳技术大学

日期:2026年07月13日

地点:汉厅315

10:10 -10:25 | 茶歇